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HOMER&D성과논문실적
논문실적
| 초순수 플랜트의 질소 소모량 이상 감지를 위한 가상센서 기술 |
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학술지명 대한물환경학회 대한상하수도학회 2024년 공동학술발표회
저자 이경혁,권병수,김지혜,임승지,이민영
발표일 2024-03-22
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초순수는 반도체 제조 공정에서 약품 세척을 위해 필수적으로 사용되며 높은 수준의 수질이 요구된다 초순수는 반도체의 직접도가 증가하면서 요구되는 수질이 점점 더 높아지고 있는 상황이다 그리고 초순수를 제조하는 수처리 플랜트의 공정 중에는 순수 및 초순수를 보관하는 저장조가 있다 이때 일부 저장조는 용존산소와 접촉을 피하기 위해 고순도 질소 가스를 공급하며 질소 가스 소모량을 측정하기 위해서는 질소가스 유량계를 설치한다 고순도 질소의 비용은 반도체 제조 공정에서 사용되는 유틸리티 비용 중 12 를 차지한다 이에 따라 고순도 질소 누출 시 플랜트 운영 비용의 손실을 야기하며 실시간으로 정확한 계측이 요구되나 초순수 제조 공정에서 질소 가스의 유량 측정은 대부분 플랜트에 적용되어 있지 않다 본 연구에서는 초순수 공정에서 소모되는 고순도 질소의 양을 이론식으로 계산하고 실제 소모량과 비교하여 가스의 누출을 감지할 수 있는 가상센서 기반의 이상 감지 기술을 제안한다 |
